设备简介YAGレーザーは、励起源としてキセノンランプを用い、レーザー作用物質としてND:YAGレーザー結晶を用いたレー
ザーです。レーザー電源はまずパルスキセノンランプを予備点火し、レーザー電源を通してパルスキセノンランプを
放電させ、キセノンランプに一定の周波数とパルス幅の光波を発生させ、光波は光共振器を通してレーザー結晶を照
射し、それによって結晶を励起してレーザーを発生させ、光共振器を通して波長1064nmのパルスレーザーを発生さ
せ、レーザーは光ファイバー伝送を経て、集束後に被加工物の表面に放射し、被加工物を局部的に溶融させて溶接を
実現します。
